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J-GLOBAL ID：200902297943642502   Reference number：04A0115994

シリコンナノブロックの配列秩序形成と薄膜生成システムの実用化

Author (3)：
IWATA YASUSHI

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(産業技術総合研 クラスタープロセス連携研究体)

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MUTO MAKIKO

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OKI MIKA

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Material：
レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)

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Volume： 10  Issue： 3  Page： 289-292  Publication year： Dec. 2003 
JST Material Number： L3905A  ISSN： 1881-6797  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)
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シリコンナノブロック

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JST classification (1)：
JST classification
Category name(code) classified by JST.
Semiconductor thin films 
(BK14040E)

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薄膜生成

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実用化

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