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J-GLOBAL ID：200902298732243667   Reference number：03A0271503

Dynamic Quantification of the Atom Rearrangement Behavior with Al-Mg 5052 Undercooling Liquid Film

Al-Mg5052過冷却液膜を用いる原子再配置挙動の動的定量

Author (2)： TOKUCHI E (Musashi Inst. Technol., Tokyo) ,  ASAI K (Musashi Inst. Technol., Tokyo)
Material： Bulletin of the Chemical Society of Japan  (Bull Chem Soc Jpn)
Volume： 76  Issue： 4  Page： 755-759  Publication year： Apr. 15, 2003 
JST Material Number： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA8  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *aluminum base alloy ,...
Semi thesaurus term： field emission electron microscope ,...

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JST classification (3)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Solidification  (WC01050M) ,  Solid-liquid interface  (CB12050B)

Reference (15)：

• 1) G. H. Gulliver, J. Inst. Metals., 1913, 120.
• 2) E. Scheil, Z. Metallkd., 34, 70 (1942).
• 3) W. G. Pfann, Trans. TMS-AIME., 194, 747 (1952).
• 4) H. D. Brody and M. C. Flemings, Trans. TMS-AIME., 236, 615 (1966).
• 5) T. W. Clyne and W. Kurz, Metall. Mater. Trans. A., 12, 965 (1981).

Terms in the title (7)： Al ,  過冷却 ,  液膜 ,  原子 ,  再配置 ,  挙動 ,  定量