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J-GLOBAL ID：200902299158362012   Reference number：06A0098343

Transparent conductive In₂O₃:Mo thin films prepared by reactive direct current magnetron sputtering at room temperature

反応性直流マグネトロンスパッタリングにより室温で作製した透明導電性In₂O₃:Mo薄膜

Author (7)： MIAO Wei-na (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  LI Xi-feng (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Qun (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  HUANG Li (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Zhuang-jian (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  ZHANG Li (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN) ,  YAN Xue-jian (Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
Material： Thin Solid Films
Volume： 500  Issue： 1-2  Page： 70-73  Publication year： Apr. 03, 2006 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *indium oxide ,...

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JST classification (3)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A) ,  Electric conduction in amorphous and liquid semiconductors  (BM03042G)

Terms in the title (7)： 反応性 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  室温 ,  作製 ,  導電性 ,  Mo ,  薄膜