水浸構造物の防汚方法および防汚膜を有する水浸構造物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997253934
Publication number (International publication number)：1999092317
Application date： Sep. 18, 1997
Publication date： Apr. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】水浸構造物、特に、船舶および海洋構造物の防汚,防食を行い、水浸構造物の表面の経年変化を防止して長寿命化を図るとともに、防汚作業等のメンテナンス性を向上させ、かつ海洋の環境汚染を防止する。【解決手段】水浸構造物の被防汚表面にTiO2 膜を形成しておくとともに、該TiO2 膜への光照射により光触媒反応を発生させ、光照射に基づいて生じる酸化力によって、被防汚表面の近傍に浮遊または遊泳する微生物等の殺菌,滅菌,繁殖防止を行う。

Claim (excerpt)：

水浸構造物(X)の防汚方法であって、被防汚表面(3)にTiO2 膜(T)を形成しておくとともに、該TiO2 膜への光照射により光触媒反応を発生させ、光照射に基づいて生じる酸化力によって被防汚表面の近傍に浮遊または遊泳する微生物等の殺菌,滅菌,繁殖防止を行うことを特徴とする水浸構造物の防汚方法。

IPC (5)：

A01N 59/16 , A01N 25/00 102 , B63B 59/04 , B65B 33/04 , C09D 5/16

FI (5)：

A01N 59/16 Z , A01N 25/00 102 , B63B 59/04 Z , B65B 33/04 , C09D 5/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

雑菌繁殖防止体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-349626 Applicant：工業技術院長, 株式会社加藤機械製作所, 株式会社アイワ
特開昭61-083106
特開平3-008448

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