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J-GLOBAL ID：200903000023225552

低い分子量を有するポリオレフイン類の製造方法および触媒

Inventor：
エドウオー・シヤムシヨウム

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ビー・ラガバ・レツデイ

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マーガリト・ロペス

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Applicant, Patent owner：
フイナ・テクノロジー・インコーポレーテツド

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Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997114224
Publication number (International publication number)：1998060033
Application date： Apr. 17, 1997
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 低い分子量を有するポリオレフィン類を製造する時に用いるに適したメタロセン触媒を提供する。【解決手段】 シクロペンタジエニル環の1つがもう1つの環とは異なる様式で置換されている橋状メタロセンで,一般に式R”(C5R4)(R’2C5C4R’4)MeQp[式中、(C5R4)は、置換シクロペンタジエニル環であり;(R’2C5C4R’4)は、インデニル環もしくは置換インデニル環であり;R,R’は、H、C1-20ヒドロカルビル基、ハロゲン等、;(C5R4)は、遠位に、少なくともt-ブチル基と同じぐらいかさ高いR置換基を1個有し;R”は、(C5R4)環と(R’2C5C4R’4)環の間に位置していて立体剛性を与える構造ブリッジであり;Qは、C1〜20ヒドロカルビル基、か或はハロゲンであり;Meは、IIIB、IVB、VBまたはVIB族の金属であり;そしてpは、Meの原子価から2を引いた数である]で表されるメタロセン化合物である。
Claim (excerpt)：
オレフィンモノマーを重合させて低い分子量を有するポリオレフィンを生じさせる方法であって、a)1)式R”(C5R4)(R’2C5C4R’4)MeQp[式中、(C5R4)は、置換シクロペンタジエニル環であり;(R’2C5C4R’4)は、インデニルもしくは置換インデニル環であり;各RおよびR’は、水素、炭素原子数が1-20のヒドロカルビル基、ハロゲン、アルコキシ、アルコキシアルキルまたはアルキルアミノ基で、各RおよびR’は同一もしくは異なっていてもよく;(C5R4)は、遠位に、少なくともt-ブチル基と同じぐらいかさ高いR置換基を1個有し;R”は、(C5R4)環と(R’2C5C4R’4)環の間に位置していて立体剛性を与える構造ブリッジであり;Qは、炭素原子数が1-20のヒドロカルビル基であるか或はハロゲンであり;Meは、元素周期律表に位置している如きIIIB、IVB、VBまたはVIB族の金属であり;そしてpは、Meの原子価から2を引いた数である]で表されるメタロセン化合物と2)イオン化剤、を含むメタロセン触媒を選択し、b)この触媒を、オレフィンモノマーを含有する重合反応ゾーンに導入して、この反応ゾーンを重合反応条件下に維持し、そしてc)比較的低い分子量を有するポリマーを取り出す、ことを含む方法。
IPC (2)：
C08F 4/64 ,  C08F 10/00
FI (2)：
C08F 4/64 ,  C08F 10/00
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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