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J-GLOBAL ID：200903000029968239

レーザプラズマX線源

Inventor： 粉川 信好 ,  松井 哲也
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999325017
Publication number (International publication number)：2001143893
Application date： Nov. 16, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：

【要約】【課題】ターゲットがガスなどの気体の場合、X線発生効率を向上できるレーザプラズマX線源を提供すること。【解決手段】プラズマ生成に寄与せず透過するレーザ光を反射させ再度プラズマに入射させる反射部材を備えるレーザプラズマX線源により達成される。

Claim (excerpt)：

真空容器内でレーザ光をターゲットに照射してプラズマを生成し、そのプラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線源において、プラズマ生成に寄与せず透過する前記レーザ光を反射させ再度プラズマに入射させる反射部材を備えるレーザプラズマX線源。

IPC (4)：

H05G 2/00 ,  G21K 1/00 ,  H05G 1/02 ,  H05H 1/24

FI (4)：

G21K 1/00 X ,  H05G 1/02 L ,  H05H 1/24 ,  H05G 1/00 K

F-Term (6)：

4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  4C092CD10 ,  4C092CE20