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J-GLOBAL ID：200903000071503220

1,2-ジクロルエタンの製造法

Inventor： 有木 勇作
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 朝日奈 宗太 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992287745
Publication number (International publication number)：1994134295
Application date： Oct. 26, 1992
Publication date： May. 17, 1994
Summary：

【要約】【目的】 塩化水素、酸素源のガスを用いてエチレンのオキシ塩素化により1,2-ジクロルエタンを製造する際に、原料ガスおよび循環ガスによる爆発の危険性を排除しながら経済的に製造を行なう。【構成】 塩化水素、酸素源のガスを用いてエチレンのオキシ塩素化により1,2-ジクロルエタンを製造する方法であって、2つ以上の固定層型オキシ反応器に酸素源のガスを分割導入してオキシ塩素化を行ない、反応生成ガスを凝縮したあとの未凝縮ガスをオキシ反応器に循環させるにあたり、循環ガスのエチレン濃度および反応生成水の塩化水素濃度がそれぞれ1〜10容量%および1〜10重量%になるように原料ガスの供給比を調整して循環ガスの酸素濃度を0.5 〜7容量%に保持する1,2-ジクロルエタンの製造法。

Claim (excerpt)：

塩化水素、エチレンガス、および酸素濃度85〜95容量%の酸素源のガスを用いて主として塩化第二銅を担持する触媒の存在下にエチレンをオキシ塩素化することにより1,2-ジクロルエタンを製造する方法であって、少なくとも2つ以上の連結された固定層型オキシ反応器に酸素源のガスを分割して導入してオキシ塩素化を行ない、反応生成物を凝縮分離したのちの未反応原料ガスと不活性ガスを主とする未凝縮ガスの一部は抜き出すが大部分をオキシ反応器に循環させるにあたり、循環ガスのエチレン濃度が1〜10容量%になるように原料であるエチレン/塩化水素のガス供給比を調整するとともに、反応生成水の塩化水素濃度が1〜10重量%になるように原料である酸素/塩化水素のガス供給比を調整することにより、循環ガスの酸素濃度を0.5 〜7容量%に保つことを特徴とする1,2-ジクロルエタンの製造法。

IPC (4)：

B01J 19/00 321 ,  C07C 17/156 ,  C07C 19/045 ,  C07B 61/00 300