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J-GLOBAL ID：200903000073872133
膜状インダクタの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
丸岡 政彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993204721
Publication number (International publication number)：1995045462
Application date： Jul. 27, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 従来の膜状インダクタの製造方法では、膜状インダクタのインダクタンスを所定の範囲におさめるため、リュータやレーザ等の手段を用いて配線パターンの一部を削除してトリミングする方法が行われていたが、この方法では、大きな設備が必要で、過剰にトリミングをすると回復できない等の欠点があった。本発明の目的は、前記のトリミングを行わずに、膜状インダクタのインダクタンスを簡便に調整できる、膜状インダクタの製造方法を提供することにある。【構成】 金属またはフェライトの小片を膜状インダクタの上に置き、膜状インダクタのインダクタンスを計測しながら、前記小片を回路パターン上に沿って移動し、インダクタンスが所定の値になったとき、当該小片を絶縁性接着剤でその位置に固定する。
Claim (excerpt)：
基体の絶縁表面上に、導体からなるスパイラル状の回路パターンによって構成される膜状インダクタの製造方法において、強磁性酸化物材料からなる小片および導電性を有する金属からなる小片のいずれかを、前記膜状インダクタ上に配置した後、膜状インダクタのインダクタンスを計測しながら、回路パターン上に沿って当該小片を移動し、前記膜状インダクタのインダクタンスが所定値になったとき、当該小片をその位置に固定する工程を含むことを特徴とする膜状インダクタの製造方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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