Pat
J-GLOBAL ID：200903000097264118

半導体基板処理システム

Inventor：
藤田 雅人

About 藤田 雅人


Applicant, Patent owner：
松下電子工業株式会社

About 松下電子工業株式会社


Agent (1)： 石原 勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999326504
Publication number (International publication number)：2001143979
Application date： Nov. 17, 1999
Publication date： May. 25, 2001
Summary：
【要約】【課題】 複数の処理装置を連続して使用する半導体基板処理において、各処理装置の稼働率の低下あるいは制御上のトラブルを招くことなく、稼働させる。【解決手段】 半導体基板の各種処理を行う処理装置群と、処理装置間で基板を搬送する搬送装置と、これらを管理するホストコントローラとを備えた半導体基板処理システムにおいて、処理装置5〜9と搬送装置10を一連の処理工程順に連続して配設したフローショップライン1を設け、フローショップライン1の内部での動作をコントロールするブロック・コントローラ22を設け、ホストコントローラ20はこのブロック・コントローラ22との間でデータ伝送を行ってフローショップライン1全体を1台の装置として認識して制御するようにした。
Claim (excerpt)：
半導体基板の各種処理を行う処理装置群と、処理装置間で基板を搬送する搬送装置と、これらを管理するホストコントローラとを備えた半導体基板処理システムにおいて、処理装置と搬送装置を一連の処理工程順に連続して配設したフローショップラインを設け、フローショップラインの内部での動作をコントロールするライン用のコントローラを設け、ホストコントローラはこのライン用のコントローラとの間でデータ伝送を行ってフローショップライン全体を1台の装置として認識して制御するようにしたことを特徴とする半導体基板処理システム。
IPC (2)：
H01L 21/02 ,  H01L 21/68
FI (2)：
H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 A
F-Term (10)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031MA03 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031MA24 ,  5F031MA27 ,  5F031PA04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)
  • 多品種連続生産方法及び装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-322214   Applicant：株式会社日立製作所
  • 生産管理システム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-112468   Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM