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J-GLOBAL ID：200903000134568750
ポリッシュによる平坦化方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991089583
Publication number (International publication number)：1994097133
Application date： Mar. 28, 1991
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】凸部と凹部とを有する被研摩材をポリッシュにより平坦化する場合に、凸部を所望のポリッシュ除去した際にも、凹部に不必要なポリッシュがなされることを防止した、段差のない良好な平坦化を達成できる平坦化方法の提供。【構成】凸部2と凹部3とを有する被研摩材1、例えば溝4の埋め込み等の全面への被膜の形成に伴い凹凸が生じた基板等の被研摩材1をポリッシュして、凸部2を研摩除去して平坦化する場合、凸部2が研摩除去される間に凹部3が研摩される分Δを予め凹部3に積み増しておいて、その後ポリッシュする。
Claim (excerpt)：
凸部と凹部とを有する被研摩材をポリッシュし凸部を研摩除去して平坦化するポリッシュによる平坦化方法において、凸部が研摩除去される間に凹部が研摩される分を予め凹部に積み増しておいて、その後ポリッシュすることを特徴とするポリッシュによる平坦化方法。
IPC (4)：
H01L 21/304 321
, H01L 21/304
, H01L 21/302
, H01L 21/76
