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J-GLOBAL ID：200903000140307055
窒化ケイ素粉末及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993284902
Publication number (International publication number)：1995138006
Application date： Nov. 15, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：
【要約】【目的】 取扱い性と保存安定性に優れ、しかも高強度を発現することのできる窒化ケイ素粉末を容易かつ安価に提供すること。【構成】 レーザー回折散乱法による平均粒子径が0.65〜1.6μm、比表面積8m2 /g以上、凝集度が3以上であることを特徴とする窒化ケイ素粉末。酸素含有量0. 2〜0. 5重量%の金属シリコン粉末100重量部に対し、α化率85%以上で比表面積6m2 /g以上の窒化ケイ素粉末30〜100重量部を含む窒化原料を嵩密度1g/cm3 以下の集合体となし、それを特定条件下で窒化させることを特徴とする窒化ケイ素の製造方法。これによって製造された窒化ケイ素を、分子内にアミン基、ケトン基、ニトリル基、エーテル基及びアルデヒド基から選ばれた1種又は2種以上の基を有するが水酸基、カルボキシル基及び/又はスルフォン基を有しないものであって、その沸点が100°C未満であり、しかも温度20°Cにおける溶解度が3g/水100g以上である有機化合物からなる粉砕助剤を用いて乾式粉砕することを特徴とする上記窒化ケイ素粉末の製造方法。
Claim (excerpt)：
レーザー回折散乱法による平均粒子径が0.65〜1.6μm、比表面積8m2 /g以上、凝集度が3以上であることを特徴とする窒化ケイ素粉末。
IPC (2)：
C01B 21/068
, C04B 35/626
