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J-GLOBAL ID：200903000151321386

電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法

Inventor： 安芸 祐一 ,  山本 眞伸
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 角田 芳末 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002035873
Publication number (International publication number)：2003242923
Application date： Feb. 13, 2002
Publication date： Aug. 29, 2003
Summary：

【要約】【課題】 電子ビームカラム12が内蔵される真空チャンバー15に静圧浮上パッド19が連結され、この静圧浮上パッド19が被照射体1に非接触で吸着した状態で電子ビームが被照射体1に照射される構造の電子ビーム照射装置において、焦点のビームスポット径をより小さく絞ることができるようにする。【解決手段】 電子ビームカラム12の先端の対物レンズ部30を切り離し、これを静圧浮上パッド19と一体化した構造とすることにより、対物レンズ部30と被照射体1との間の距離を近接させる。

Claim (excerpt)：

電子ビームカラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが被照射体に照射される構造の電子ビーム照射装置において、上記電子ビームカラムの対物レンズ部を上記静圧浮上パッドと一体化した構造としたことを特徴とする電子ビーム照射装置。

IPC (4)：

H01J 37/301 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305

FI (4)：

H01J 37/301 ,  G11B 7/26 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305 Z

F-Term (4)：

5C033KK06 ,  5D121BB21 ,  5D121BB38 ,  5D121BB40