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J-GLOBAL ID：200903000158559019

反応検知器の校正方法

Inventor： 橋崎 元裕 ,  渡辺 和人
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999130946
Publication number (International publication number)：2000321207
Application date： May. 12, 1999
Publication date： Nov. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】プラズマによる反応処理の検出器を容易に再現性よく調整する手段を提供する。【解決手段】校正ガス導入し、反応室のプラズマによる発光スペクトル強度より検出部に印加する電圧を調整することで、検出レベルを調整する。

Claim (excerpt)：

反応処理を行う反応室を有し、反応室内でプラズマを発生させ、プラズマと供給ガスにより被処理物の反応処理を行わせ、上記反応処理により発生したガスとプラズマによる発光を検出部で検出し、検出した発光強度から反応状態を検知する反応検出器において、発光強度の検出レベルを校正ガスを用いて調整することを特徴とした反応検出器の校正方法。

IPC (4)：

G01N 21/71 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  G01N 21/27

FI (4)：

G01N 21/71 ,  B01J 19/00 J ,  B01J 19/08 E ,  G01N 21/27 F

F-Term (34)：

2G043AA01 ,  2G043CA01 ,  2G043CA02 ,  2G043DA05 ,  2G043EA08 ,  2G043GA06 ,  2G043GA09 ,  2G043GB11 ,  2G043GB21 ,  2G043HA05 ,  2G043JA03 ,  2G043LA02 ,  2G043NA01 ,  2G043NA05 ,  2G043NA06 ,  2G043NA11 ,  2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059DD12 ,  2G059EE06 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ17 ,  2G059KK02 ,  2G059MM01 ,  2G059MM05 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059MM12 ,  4G075AA62 ,  4G075AA65 ,  4G075CA47 ,  4G075CA51 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32