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J-GLOBAL ID：200903000163579540

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法

Inventor：
高見 英生

About 高見 英生

, 
矢作 政隆

About 矢作 政隆


Applicant, Patent owner：
株式会社日鉱マテリアルズ

About 株式会社日鉱マテリアルズ


Agent (1)： 小越 勇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004039131
Publication number (International publication number)：2005232471
Application date： Feb. 17, 2004
Publication date： Sep. 02, 2005
Summary：
【要約書】【課題】 ZnO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法に関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。 【解決手段】 ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。(In2O3)(ZnO)m、m≧1のホモロガス構造を有し、これにTa、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
Claim (excerpt)：
ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (4)：
C23C14/34 ,  C04B35/495 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26
FI (5)：
C23C14/34 A ,  G11B7/24 534K ,  G11B7/24 535F ,  G11B7/26 531 ,  C04B35/00 J
F-Term (23)：
4G030AA12 ,  4G030AA21 ,  4G030AA32 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030BA01 ,  4G030BA16 ,  4K029AA11 ,  4K029BA49 ,  4K029BC01 ,  4K029BC08 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  5D029LA14 ,  5D029LB01 ,  5D029LB03 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (4)
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