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J-GLOBAL ID:200903000163579540
スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小越 勇
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004039131
Publication number (International publication number):2005232471
Application date: Feb. 17, 2004
Publication date: Sep. 02, 2005
Summary:
【要約書】【課題】 ZnO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法に関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。 【解決手段】 ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。(In2O3)(ZnO)m、m≧1のホモロガス構造を有し、これにTa、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
Claim 1:
ZnOを主成分とするホモロガス構造を有する酸化物に、Ta、Yの何れか1種又は2種の元素の酸化物を含有する材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (4):
C23C14/34
, C04B35/495
, G11B7/24
, G11B7/26
FI (5):
C23C14/34 A
, G11B7/24 534K
, G11B7/24 535F
, G11B7/26 531
, C04B35/00 J
F-Term (23):
4G030AA12
, 4G030AA21
, 4G030AA32
, 4G030AA34
, 4G030AA36
, 4G030BA01
, 4G030BA16
, 4K029AA11
, 4K029BA49
, 4K029BC01
, 4K029BC08
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 5D029LA14
, 5D029LB01
, 5D029LB03
, 5D121AA04
, 5D121EE03
, 5D121EE09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-058383
Applicant:出光興産株式会社
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透明導電材料、透明導電ガラス及び透明導電フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-058386
Applicant:出光興産株式会社
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透明導電膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-091327
Applicant:グンゼ株式会社
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ターゲットおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-315084
Applicant:出光興産株式会社
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光ディスク保護膜及び同保護膜形成用スパッタリングタ-ゲット
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-372318
Applicant:株式会社ジャパンエナジー
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スパッタリングターゲットの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-056979
Applicant:株式会社日鉱マテリアルズ
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Cited by examiner (4)