ホログラム光学素子、光ピックアップ及びそれらの製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小鍜治明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994068375
Publication number (International publication number)：1995281030
Application date： Apr. 06, 1994
Publication date： Oct. 27, 1995
Summary：

【要約】【目的】ホログラム光学素子の形成において良質でプロセスの簡略化がはかれる構成とその製造方法並びに、往復路分離、フォーカスエラー検出機能の2つの機能を1個のホログラムで実現し、小型で安価な光ピックアップを提供する。【構成】ホログラム素子形成においてグレーティングパターン形成をガラス基板31上に形成された薄膜32にエッチングし、さらにより高アスペクト比を実現するために金属薄膜33を形成し、ホログラムパターンを一旦金属薄膜33に転写した後にエッチングを実施する。また、透明な光ガイド部材(平行平板基板)5の上面5aに形成されたホログラム8の作用により、発光素子からの光を光ディスク盤に集光するとともに、光ディスク盤11からの反射光を発光素子の直線偏光21の偏光方向に対して、復路回折光14として回折させ、偏光分離膜15により効率良く分離し、フォーカスエラー信号と光磁気信号を検出する。

Claim (excerpt)：

回折現象を利用し入射光束を所定の方向に回折、反射させるホログラム光学素子であって、前記光学素子の基板と、前記基板よりもエッチングレートを大きくするとともに、前記基板上に積層されてホログラムパターンを形成するホログラム形成層とを備えたことを特徴とするホログラム光学素子。

IPC (2)：

G02B 5/32 , G02B 6/34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平2-079236
特開昭60-033504
特開平2-079236

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