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J-GLOBAL ID：200903000193614790

抗真菌剤

Inventor： 湯浅 雅之 ,  河津 幸雄 ,  伊藤 隆男 ,  中島 琢自 ,  野沢 暁
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998219866
Publication number (International publication number)：2000034285
Application date： Jul. 17, 1998
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、抗真菌作用を有する新規母核の化合物を見いだすことを課題とする。【解決手段】 一般式(I)に表される化合物及び/又は生理的に許容されるその塩を抗真菌剤として提供する。本発明によれば、抗真菌作用を有する新規母核の化合物が提供できる。【化1】一般式(I)(但し、式中R1はハロゲン原子及び炭素数1〜4のアルキル基から選ばれる基を0〜2個有する、チエニル基又はチアゾリル基を表し、R2は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R3、R4、R5はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(I)に表される化合物及び/又は生理的に許容されるその塩。【化1】一般式(I)(但し、式中R1はハロゲン原子及び炭素数1〜4のアルキル基から選ばれる基を0〜2個有する、チエニル基又はチアゾリル基を表し、R2は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R3、R4、R5はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基又はフェニル基を表す。)

IPC (7)：

C07D277/24 ,  A61K 31/38 ,  A61K 31/425 ADZ ,  C07D277/28 ,  C07D333/20 ,  C07D333/22 ,  C07D333/28

FI (7)：

C07D277/24 ,  A61K 31/38 ,  A61K 31/425 ADZ ,  C07D277/28 ,  C07D333/20 ,  C07D333/22 ,  C07D333/28

F-Term (13)：

4C023CA04 ,  4C023DA02 ,  4C033AD06 ,  4C033AD18 ,  4C033AD20 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA03 ,  4C086AA04 ,  4C086BC82 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB35

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 抗真菌剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-219689   Applicant：ポーラ化成工業株式会社
• 含硫黄抗真菌剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-219864   Applicant：ポーラ化成工業株式会社

Cited by examiner (2)

• 抗真菌剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-219689   Applicant：ポーラ化成工業株式会社
• 含硫黄抗真菌剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-219864   Applicant：ポーラ化成工業株式会社