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J-GLOBAL ID：200903000210249619

エキシマレーザ装置用還流ファンの構造

Inventor： 矢田 雄司 ,  徳永 寛哲
Applicant, Patent owner： エヌティエヌ株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000318818
Publication number (International publication number)：2002134812
Application date： Oct. 19, 2000
Publication date： May. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】 金属製のパイプを用いることなく、磁気軸受および位置センサなどが直接フッ素ガス雰囲気にさらされることがないようなエキシマレーザ装置用ガス還流ファンの構造を提供する。【解決手段】 チャンバ1内にはレーザガスが封入されており、チャンバ1内で回転軸2に取付けられたファン3が回転する。チャンバ1の両側にはレーザガスに対して耐腐食性のある金属皮膜電線(53)を巻回したラジアル磁気軸受5,9と位置検出センサ6,10が配置され、回転軸2を磁気浮上させ、モータステータ11の駆動力によってファン3が回転する。

Claim 1：

ファンが取付けられた回転軸と、前記回転軸を非接触で支持する制御型磁気軸受と、前記回転軸を回転させるためのモータとを備え、前記モータの駆動によるファンの回転によってチャンバ内のレーザガスを循環させるエキシマレーザ装置用還流ファンの構造において、前記制御型磁気軸受は、前記回転軸の軸方向に配置され、前記レーザガスに対して耐腐食性のある金属皮膜電線を巻回して構成されたラジアル電磁石と、前記各ラジアル電磁石の周辺に配置され、前記レーザガスに対して耐腐食性のある金属皮膜電線を巻回した位置検出センサを含むことを特徴とする、エキシマレーザ装置用還流ファンの構造。

IPC (4)：

H01S 3/036 ,  F04D 29/04 ,  F04D 29/58 ,  H01S 3/225

FI (4)：

F04D 29/04 M ,  F04D 29/58 P ,  H01S 3/03 J ,  H01S 3/223 E

F-Term (16)：

3H022AA02 ,  3H022BA06 ,  3H022CA16 ,  3H022CA21 ,  3H022CA50 ,  3H022CA51 ,  3H022DA16 ,  3H022DA19 ,  3H022DA20 ,  3H035AA02 ,  5F071AA06 ,  5F071DD08 ,  5F071EE04 ,  5F071FF09 ,  5F071JJ03 ,  5F071JJ10