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J-GLOBAL ID：200903000241228709

ポジ型レジスト用剥離液

Inventor： 脇屋 和正 ,  小林 政一 ,  原田 庸一郎 ,  田中 初幸 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993267448
Publication number (International publication number)：1995120937
Application date： Oct. 26, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 含窒素有機ヒドロキシ化合物と、下記式(R1は水素原子、水酸基又はアミノ基、R2は水素原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基又はヒドロキシアルキル基)の芳香族ヒドロキシ化合物とを含有するか、あるいはさらに加えてトリアゾール化合物及び/又は水溶性有機溶剤を含有するポジ型レジスト用剥離液である。【効果】 比較的低温でも剥離性に優れ、特に過酷な化学的環境に曝され、変質したレジストも容易に剥離することができ、かつアルミニウムや銅などの金属材料を腐食しないという顕著な効果を奏し、半導体素子の製造用などに好適。

Claim (excerpt)：

(A)含窒素有機ヒドロキシ化合物及び(B)一般式【化1】(式中のR1は水素原子、水酸基又はアミノ基、R2は水素原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基又はヒドロキシアルキル基である)で表わされる芳香族ヒドロキシ化合物を含有してなるポジ型レジスト用剥離液。

IPC (2)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027