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J-GLOBAL ID:200903000242850977

高解像ポジティブ型乾燥膜フォトレジスト

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997340012
Publication number (International publication number):1998213903
Application date: Dec. 10, 1997
Publication date: Aug. 11, 1998
Summary:
【要約】【課題】 接触方式での露光描画中のアートワークのテンティングおよびネガティブ型乾燥膜に比べて遅い露光速度などの性能限界を克服しており、従来からネガティブ型乾燥膜フォトレジストに使用されている化学物質および設備を用いて感光、現像することができるポジティブ型液体フォトレジストを提供する。【解決手段】 アルカリ性水溶液中で剥ぎ取り可能なポジティブ型フォトレジスト組成物(例えば単一層乾燥膜)は、光酸発生剤と、光活性成分の有効な光退色を可能にする、紫外線に対して透明な樹脂バインダー系とを含んでいる。酸官能基を有するセルロース樹脂が唯一のバインダー樹脂であってもよく、酸性アクリル樹脂は任意のものである。乾燥コーティングは可撓性であり、エッチングおよびめっき用レジストとして使用してもよい。
Claim (excerpt):
光酸発生剤とバインダー樹脂とを含んでいるポジティブ型フォトレジスト組成物であって、そのバインダー樹脂が(a)下記構造【化1】(上式中、R、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または-C(=O)R' (COOR" )m (ここで、R'はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、mは1または2であって、mが1のときはR''は水素であり、mが2のときは少なくとも1つのR" が水素であり、他方は1〜4個の炭素原子を有するアルキルである)であり、但し、R、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 の少なくとも1つは-C(=O)R' (COOR" )m であり、他のR、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 の少なくとも1つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または-C(=O)R' (COOR" )m であるものとする)を有し、酸官能基を有するセルロース樹脂、および(b)樹脂の総合重量に対して0〜25重量%の酸性アクリル樹脂からなる組成物。
IPC (8):
G03F 7/039 501 ,  C08K 5/42 ,  C08L 1/08 ,  C09D 7/12 ,  C09D101/08 ,  G03F 7/004 503 ,  C08L 33/00 ,  C09D133/00
FI (8):
G03F 7/039 501 ,  C08K 5/42 ,  C08L 1/08 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D101/08 ,  G03F 7/004 503 Z ,  C08L 33/00 ,  C09D133/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • 特開昭56-097341
  • 特開昭59-005243
  • 特開平1-144463
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