Pat
J-GLOBAL ID:200903000307494219

現像方法および現像装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000316176
Publication number (International publication number):2002124452
Application date: Oct. 17, 2000
Publication date: Apr. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 感光性材料の現像液濃度変化によるパターニング不良を解決し、精度の高い厚膜パターン形成方法と、その製造装置、および、それらを用いた表示装置を提供する。【解決手段】 アルカリ性あるいは酸性の現像液を用いる現像方法であって、現像液中のアルカリ成分あるいは酸性成分濃度を計測し、所定の濃度からの濃度変化を算出し、変化に相当するアルカリ成分あるいは酸性成分を補給し現像液濃度を任意の濃度幅に制御し現像を行う現像方法である。
Claim (excerpt):
アルカリ性あるいは酸性の現像液を用いる現像方法であって、現像液中のアルカリ成分あるいは酸性成分濃度のすべてを、あるいは一部を計測し、所定の濃度からの濃度変化を算出し、変化に相当するアルカリ成分あるいは酸性成分を補給し現像液濃度を任意の濃度幅に制御し現像を行う現像方法。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501
FI (2):
G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 D
F-Term (8):
2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096GA08 ,  2H096GA60 ,  2H096LA30 ,  5F046LA11 ,  5F046LA14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 基板現像装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-158269   Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
  • レジストパタ-ン形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-372545   Applicant:関西ペイント株式会社

Return to Previous Page