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J-GLOBAL ID：200903000324154642

基板洗浄装置及び基板処理装置

Inventor： 本郷 明久 ,  片伯部 一郎 ,  森澤 伸哉
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 熊谷 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999288438
Publication number (International publication number)：2001110771
Application date： Oct. 08, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 基板外周の支持バーが接触している部分に洗浄残り、エッチング残りが発生することのない基板洗浄装置及び洗浄部に該基板洗浄装置を用いた基板処理装置を提供すること。【解決手段】 所定の加工を施した基板を支持部材で支持し、該基板を回転させながら洗浄する基板洗浄装置において、支持部材は低速回転において基板Wの外周部に当接して基板Wを挟持し、高速回転において基板Wの外周部から離脱する3個以上の第1の支持バー11aと、低速回転において基板Wの外周部から離脱し、高速回転において基板外周部に当接して基板Wを挟持する3個以上の第2の支持バー11bとからなる。

Claim (excerpt)：

所定の加工を施した基板を支持部材で支持し、該基板を回転させながら洗浄する基板洗浄装置において、前記支持部材は低速回転において前記基板の外周部に当接して該基板を挟持し、高速回転において該基板外周部から離脱する3個以上の第1の支持バーと、低速回転において前記基板外周部から離脱し、高速回転において前記基板外周部に当接して該基板を挟持する3個以上の第2の支持バーとからなることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/68

FI (5)：

H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 B ,  C23F 1/08 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/306 F

F-Term (25)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC13 ,  4K057WA20 ,  4K057WM04 ,  4K057WM11 ,  4K057WN01 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031HA24 ,  5F031HA27 ,  5F031HA30 ,  5F031LA07 ,  5F031MA22 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043EE07 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10