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J-GLOBAL ID：200903000336437674

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

Inventor： 吉田 勲 ,  原田 由香子 ,  山口 訓史 ,  安藤 信雄
Applicant, Patent owner： 住友化学株式会社
Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006093735
Publication number (International publication number)：2007224008
Application date： Mar. 30, 2006
Publication date： Sep. 06, 2007
Summary：

【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)または式(II)で示される塩。(Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Xは環Xの一部を形成するように記載された二つの炭素原子とともに形成する炭素数3〜30の、式(I)においては=Oと結合している、式(II)においては-OHと結合している単環式または多環式炭化水素基を表し、A+は有機対イオンを表す。式(I)および式(II)中の環Xは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(I)または式(II)で示されることを特徴とする塩。

IPC (7)：

C07C 309/17 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  C07C 303/22 ,  C07C 381/12 ,  C07D 333/46 ,  C09K 3/00

FI (7)：

C07C309/17 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  C07C303/22 ,  C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C09K3/00 K

F-Term (23)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB48 ,  4H006AB80 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006BA28 ,  4H006BA36 ,  4H006BE10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (1)

• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-039501   Applicant：住友化学工業株式会社