Pat
J-GLOBAL ID：200903000346852378
ウェーハ管理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004068587
Publication number (International publication number)：2005259934
Application date： Mar. 11, 2004
Publication date： Sep. 22, 2005
Summary：
【課題】従来方式では、装置の管理時、管理ウェーハのカセットへの移載作業、処理後の測定結果からの装置状態判断、使用済みウェーハの種類分別作業、リサイクル判断を人が行っているため、非効率であり、メンテナンス時間の遅延による生産ロットの進行を止めることになり、納期の遅れをもたらし、計画生産枚数の未達が発生していた。【解決手段】本発明は、枚葉制御可能な製造装置の管理において、管理ウェーハ毎に加工処理情報および測定情報を記憶する事により、記憶した管理ウェーハ情報から必要ウェーハの抽出、カセットへの移載、工程情報記憶、出庫、工程処理、使用済みウェーハの分別、装置状態判断を自動で行うことにより、人による判断を伴うことなく管理ウェーハを進行、補充させる手段からなる。【選択図】図1
Claim 1：
枚葉制御可能な製造装置において処理されたウェーハ、または未使用のウェーハの情報を管理ウェーハ制御装置で管理する管理ウェーハ制御手段と、
管理ウェーハ保管装置に前記ウェーハを保管する管理ウェーハ保管手段とを備え、
前記製造装置で指定の条件で処理された前記ウェーハ、または未使用のウェーハを前記管理ウェーハ制御装置に管理された前記情報を参照して前記管理ウェーハ保管装置から取り出すことを特徴とするウェーハ管理方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/02 Z
, G05B23/02 V
5H223AA05
, 5H223BB04
, 5H223CC03
, 5H223DD09
, 5H223EE06
, 5H223FF09
Cited by applicant (1)
-
半導体製造設備管理方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平10-246949
Applicant：三星電子株式会社
Cited by examiner (2)
Return to Previous Page
