Pat

J-GLOBAL ID：200903000353278032

レーザー焼き付け方法およびそれに用いるマスクホルダ

Inventor： 植山 公助 ,  田中 啓司 ,  西山 泰史 ,  岡野 達広
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993140559
Publication number (International publication number)：1994347998
Application date： Jun. 11, 1993
Publication date： Dec. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】レーザー照射に対する耐性を高くしレーザー焼き付け用マスクの寿命を延ばし、また遮光パターンが他と分離された島状パターンであっても分離されたとおりに照射パターンを得られるレーザー焼き付け方法とマスクホルダを提供する。【構成】パターンの設けられたマスクを介してレーザー照射を行い基材に焼き付けする際に、マスクホルダが形成する流路に冷却媒体を流してマスクを冷却することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

パターンの設けられたマスクを介してレーザー照射を行い基材に焼き付けするレーザー焼き付け方法において、レーザー照射の際に冷却媒体により該マスクを冷却することを特徴とするレーザー焼き付け方法。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-302129
  
• レーザ加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-152950   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平4-302129