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J-GLOBAL ID:200903000361850438

二光子吸収材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003369795
Publication number (International publication number):2005132763
Application date: Oct. 30, 2003
Publication date: May. 26, 2005
Summary:
【課題】 巨大な二光子吸収断面積を有し、低濃度で高い二光子吸収特性を発揮し得る新規な化合物を提供すること。 【解決手段】 下記一般式(1)で表されるエチレン系化合物;【化1】(式中、R1〜R8は、それぞれ同一又は相異なって、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基又は炭素数1〜12のアルコキシ基を示し、R9及びR10は、それぞれ同一又は相異なって、ピリジル基又はピリジニウム塩基を示し、nは1〜4の整数を示す。)。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表されるエチレン系化合物;
IPC (3):
C07D213/53 ,  C09B23/00 ,  C09B69/06
FI (3):
C07D213/53 ,  C09B23/00 L ,  C09B69/06
F-Term (13):
4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA06 ,  4C055DA25 ,  4C055EA01 ,  4C055GA01 ,  4H056CA02 ,  4H056CA05 ,  4H056CB03 ,  4H056CC02 ,  4H056CE03 ,  4H056DD04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent:
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