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J-GLOBAL ID：200903000368287186

マイクロリソグラフィーによる接線偏光型投影露光

Inventor： カーツハインツ・シュスター ,  クリスティアン・ヴァグナー ,  マルティン・シュリーバー
Applicant, Patent owner： カール・ツアイス・スティフツング
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001044689
Publication number (International publication number)：2001274083
Application date： Feb. 21, 2001
Publication date： Oct. 05, 2001
Summary：

【要約】【課題】 マイクロリソグラフィーによる新規な接線偏光型投影露光を提案する。【解決手段】 光アパーチャーでマイクロリソグラフィーにより投影露光する方法および装置において、レジストの入射面に対し垂直に光を偏光させることによりコントラストを増大させる。接線偏光として偏光を制御する装置、または照明システムおよび縮小レンズにおいてダイポール照明に適合した直線偏光が提示される。

Claim (excerpt)：

偏光した光を用いてマイクロリソグラフィーにより像を生成する方法において、像面に入射し、干渉して像を生成する光束(81,82)が、入射面に対し垂直な方向の偏光方向を有していることを特徴とする方法。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5)：

G02B 19/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 D