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J-GLOBAL ID:200903000384316633
ラクトン構造を有する新規(メタ)アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小島 隆司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001179614
Publication number (International publication number):2002371114
Application date: Jun. 14, 2001
Publication date: Dec. 26, 2002
Summary:
【要約】【解決手段】 一般式(1)で表される(メタ)アクリレート化合物。【化1】(式中、R1はH又はCH3、R2、R3はH又はアルキル基、Xは、ノルボルナン環、ビシクロ[2.2.2]オクタン環、7-オキサノルボルナン環、又はシクロヘキサン環構造を形成する基、点線は該構造とγ-ブチロラクトン環構造とを結合する。)【効果】 本発明の重合体は透明性、特にエキシマレーザー露光波長での透明性に優れている。
Claim (excerpt):
下記一般式(1)で表される(メタ)アクリレート化合物。【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基、R2、R3は水素原子、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を表し、R2とR3は結合して環を形成してもよく、その場合には、R2とR3で炭素数2〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基を表す。Xは-CH2-、-CH2CH2-もしくは-O-又は互いに分離した2個の-Hであることを表す。点線はノルボルナン環、ビシクロ[2.2.2]オクタン環、7-オキサノルボルナン環、又はシクロヘキサン環構造とγ-ブチロラクトン環構造とを結合する単結合、二価の有機基又はこれら両環構造間で一個又は二個の構成炭素原子を共有する構造を表す。)
IPC (6):
C08F 20/28
, C07D307/33
, C07D307/77
, C07D307/94
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (6):
C08F 20/28
, C07D307/77
, C07D307/94
, G03F 7/039 601
, C07D307/32 G
, H01L 21/30 502 R
F-Term (26):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 4C037EA10
, 4C037WA01
, 4C037XA01
, 4J100AL08P
, 4J100BA02P
, 4J100BA11P
, 4J100BC04P
, 4J100BC08P
, 4J100BC53P
, 4J100CA01
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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フォトレジスト用高分子化合物及び感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-153173
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
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ラクトン構造を有する多環式化合物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-109446
Applicant:三菱化学株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-051811
Applicant:東京応化工業株式会社
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