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J-GLOBAL ID：200903000388886361

磁気ディスク用結晶化ガラス基板およびその製造方法

Inventor： 舘村 満幸
Applicant, Patent owner： 東芝硝子株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997092217
Publication number (International publication number)：1998287444
Application date： Apr. 10, 1997
Publication date： Oct. 27, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基板全面を研磨するだけで、低浮上化CSS方式に対応したゾーンテクスチャされた磁気ディスク用基板が容易に得られる結晶化ガラス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】 結晶化ガラスの結晶密度を基板面のゾーン別に異ならせて、全面を研磨するだけで、表面粗さRaがゾーン別に異なりランディングゾーンで1.5nm以上7.0nm以下、記録再生ゾーンで0.6nm以上1.5nm未満となるようにする。そのためには結晶化ガラスの核形成をゾーン別に制御して行う。核形成の制御は、ガラス組成に含有させた結晶核形成剤の種類にあわせて、基板面のゾーン別に異なる量の紫外線を照射したり、異なる温度で核形成を行わせたりすることにより可能となる。

Claim (excerpt)：

結晶化ガラスの結晶密度がゾーン別に異なり、かつ、全面研磨後の表面粗さRaがゾーン別に異なっていることを特徴とする磁気ディスク用結晶化ガラス基板。