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J-GLOBAL ID：200903000401484685

レジストインキ組成物及びソルダーレジスト膜形成法

Inventor： 稲垣 均 ,  邑田 勝人 ,  日高 勇 ,  沢崎 賢二
Applicant, Patent owner： 太陽インキ製造株式会社
Agent (1)： 渡部 剛 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992018153
Publication number (International publication number)：1995301918
Application date： Jan. 06, 1992
Publication date： Nov. 14, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 解像性不良が無く、ニジミ、回路間への埋込み性、スクリーンの伸縮による印刷位置精度の不良なく、密着性及び耐熱性に優れたソルダーレジスト膜を形成するためのレジストインク組成物及び膜の形成方法の提供。【構成】 A.エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる酸価30〜150を有する紫外線硬化型樹脂、B.水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルと、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる酸価100〜300を有する紫外線硬化型モノマー、C.単官能紫外線硬化型モノマー、D.エポキシ樹脂、E.エポキシ樹脂硬化剤、F.光重合開始剤よりなり、導体回路が形成された基板上に塗布し、紫外線により予備硬化を行なった後、導体回路上のレジスト膜をアルカリ水溶液で選択的に剥離し、次いで、紫外線硬化及び/又は加熱硬化を行なうか、或いは行なうことなしにソルダーレジスト皮膜を形成する方法。

Claim (excerpt)：

A.エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との反応物と、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる酸価30〜150を有する紫外線硬化型樹脂B.水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステルと、飽和又は不飽和多塩基酸無水物とを反応せしめて得られる酸価100〜300を有する紫外線硬化型モノマーC.単官能紫外線硬化型モノマーD.エポキシ樹脂E.エポキシ樹脂硬化剤F.光重合開始剤からなるレジストインキ組成物よりなり、導体回路が形成された基板上に塗布し、紫外線により予備硬化した際、導体回路上の予備硬化レジスト膜のみがアルカリ水溶液により剥離される性質を有することを特徴とするレジストインキ組成物。

IPC (9)：

G03F 7/027 515 ,  C08G 59/18 NLE ,  C08G 59/40 NKJ ,  C09D 11/00 PTE ,  C09D 11/10 PTR ,  C09D 11/10 PTV ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-242609
  
• 特開平2-173747
  
• 特開平3-126950
  
• 特開平3-245149