Pat
J-GLOBAL ID：200903000404350736
表面欠陥検査方法および表面欠陥検査装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
酒井 昭徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002324877
Publication number (International publication number)：2004109106
Application date： Nov. 08, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
【課題】蓄積型(TDI)ラインCCDを用いて、検査対象面の凹凸欠陥およびうねりを同時に検知すること。【解決手段】鏡に見立てた検査対象面をTDIラインCCD26に直交する方向へ移動させながら、検査対象物31の表面に格子縞23を投影して反射させ、その反射像をTDIラインCCD26で観測する。検査対象面に格子縞を、反射像の縞模様が検査対象面の移動方向に対して斜めになるように投影する。反射像の、検査対象面の移動方向に繰り返される明部と暗部の繰り返しの最小単位を1周期としたときに、TDIラインCCD26の光量蓄積範囲を、たとえば1.5周期分とする。TDIラインCCD26から得られた信号強度をしきい値と比較して、凸欠陥を検知する。TDIラインCCD26から得られた信号強度パターンを標準パターンと比較し、うねりや凹欠陥を検知する。【選択図】 図1
Claim 1：
検査対象面を蓄積型ラインCCDに直交する方向へ移動させながら、前記検査対象面に格子縞を投影して反射させ、その反射像を前記蓄積型ラインCCDにより観測することにより、前記検査対象面の欠陥を検査する表面欠陥検査方法であって、
前記検査対象面に前記格子縞を、前記反射像の縞模様が前記検査対象面の移動方向に対して斜めになるように投影するとともに、前記反射像の、前記検査対象面の移動方向に繰り返される明部と暗部の繰り返しの最小単位を1周期としたときのその1周期のn倍(nは自然数)に1周期未満の位相分αを付加した範囲の反射像の光量を、前記蓄積型ラインCCDにより蓄積する工程と、
前記蓄積型ラインCCDの各画素に蓄積された光量に対応する信号強度および信号強度のパターンに基づいて、前記検査対象面の欠陥を検知する工程と、
を含むことを特徴とする表面欠陥検査方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (36)：
2F065AA49
, 2F065BB01
, 2F065BB22
, 2F065CC02
, 2F065CC21
, 2F065DD04
, 2F065FF04
, 2F065FF41
, 2F065FF67
, 2F065GG03
, 2F065GG16
, 2F065HH06
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL22
, 2F065MM03
, 2F065PP12
, 2F065QQ04
, 2F065QQ24
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, 2F065QQ31
, 2G051AA73
, 2G051AB07
, 2G051AB10
, 2G051AC21
, 2G051BA20
, 2G051BB09
, 2G051BB17
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051EA08
, 2G051EA14
, 2G051EB01
