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J-GLOBAL ID：200903000413983032

吸気通路用ガス導入装置及びその製造方法

Inventor： 加藤 弓記也 ,  小林 昌弘 ,  片平 奈津彦 ,  清野 誉晃
Applicant, Patent owner： 愛三工業株式会社 ,  トヨタ自動車株式会社
Agent (1)： 富澤 孝 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000117452
Publication number (International publication number)：2001304044
Application date： Apr. 19, 2000
Publication date： Oct. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】高温ガスに対する信頼性を向上させ、製造を容易にすること。【解決手段】ガス導入装置12は、吸気通路14を構成する内管部17と、内管部17と間隙19を隔てて配置された外管部18と、ガスを間隙19に導入するために外管部18に設けられた導入口21と、間隙19に導入されたガスを吸気通路14に導入するために内管部17の所定位置に形成された複数の導入孔23a,23bとを備える。ガス導入装置12は、ダイカストにより一体形成される。型締め・型開きされる上型31は、間隙19を形成するための隔壁31bを含む。上型31に対応する下型32は、導入孔23a,23bに対応する凸部32b,32cを含む。各導入孔を形成するために、型締工程では隔壁31bと凸部32b,32cとを接触させ、型開工程ではそれらを引き離す。

Claim (excerpt)：

外気を流す吸気通路に外気以外のガスを導入するガス導入装置であって、吸気通路を構成する内管部と、前記内管部の外周に所定の間隙を隔てて配置された外管部と、前記内管部と前記外管部とがそれらの下流側端部で連結されて一体形成されることと、前記内管部及び前記外管部の上流側端面で前記間隙を開放する間隙開口と、前記外気以外のガスを前記間隙に導入するために前記外管部に設けられた導入口と、前記間隙に導入されたガスを前記吸気通路に導入するために前記内管部の所定位置に設けられ、前記内管部の下流側端面まで延びる導入孔とを備えたことを特徴とする吸気通路用ガス導入装置。

IPC (3)：

F02M 25/07 580 ,  F02M 35/10 101 ,  F02M 35/10 311

FI (3)：

F02M 25/07 580 B ,  F02M 35/10 101 N ,  F02M 35/10 311 E

F-Term (1)：

3G062ED05