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J-GLOBAL ID:200903000424584148

走査形写真平版のためのオフ軸整列装置及び写真平版ツール

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995209736
Publication number (International publication number):1996190202
Application date: Aug. 17, 1995
Publication date: Jul. 23, 1996
Summary:
【要約】【目的】 走査形写真平版装置においてウェファとマスクとの間の整列正確度を改善する。【構成】 整列装置は、整列レチクルパターンを、整列マークを含むウェファ上に結像させる。走査の間に、整列レチクルイメージからの光線はウェファおよびその整列マークによって反射され、そして散乱される。明るいフィールドおよび暗いフィールド領域において、反射されそして散乱された光線を収集するために、多数の検出器が整列装置のピューピル平面に設けられる。結果的な信号およびそれらの分析は、ウェファの正確な整列の決定に導く。
Claim (excerpt):
走査形写真平版ツールにおいて用いるための整列装置において、1つの照射源と、1つのレチクルと、光線を方向付けするための第1レンズ装置と、1つの開口ストップと、1つのビームスプリッタと、ウェファに光線を向けるための、そしてウェファから反射されそして散乱された光線を集めるための第2レンズ装置、ここにおいてウェファはプラスおよびマイナス整列マークをその上に持っている、と、ウェファから反射された光線を検出するための、前記ビームスプリッタと関連する第1検出器装置と、ウェファ上のプラス整列マークからの散乱された光線を検出するための第2検出器装置と、そしてウェファ上のマイナス整列マークからの散乱された光線を検出するための第3検出器装置と、含むことを特徴とする走査形写真平版において用いるための整列装置。
IPC (3):
G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027
FI (2):
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 特開昭60-188953
  • 特開昭59-101827
  • 特開昭63-041023
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