波面収差計測機

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大西正悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001355034
Publication number (International publication number)：2003086501
Application date： Nov. 20, 2001
Publication date： Mar. 20, 2003
Summary：

【要約】【課題】ミラー(反射)型光学系に対する回折格子シアリング干渉計を用いた波面収差計測機において、2重の回折干渉を行うので0次光や高次の回折光が重なってしまい解析が困難になってしまうことを防止する。【解決手段】本発明の波面収差計測機は、球面波の光を発生させるピンホール部材と、被検光学系を所定位置に保持する被検光学系保持装置と、回折格子と、回折格子からの光を受けるマスク部材16と、マスク部材16からの回折光を投影するCCDと、マスク部材16が所定次数の回折光のみを選択的に透過させる回折光選択手段と所定次数の回折光成分のみを選択的に解析する回折光解析手段とを有する構成をなし上記課題を解決している。

Claim (excerpt)：

所定波長の光を供給する光源と、前記光源からの光を通過させて球面波の光を発生させるピンホールを有したピンホール部材と、被検光学系を所定位置に保持し、前記球面波の光を前記被検光学系に照射させるとともに前記被検光学系から光を出射させる被検光学系保持装置と、前記被検光学系からの出射光を受ける位置に配置された回折格子と、前記被検光学系からの出射光を受けることにより前記回折格子から出射される光を受ける位置に配置されたマスク部材と、前記マスク部材からの回折光の干渉稿を測定する検出光学系とからなる回折格子シアリング干渉を用いた波面収差計測機において、前記マスク部材が所定次数の回折光のみを選択的に透過させる回折光選択手段を有することを特徴とする波面収差計測機。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G01M 11/02 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521

FI (5)：

G01M 11/02 B , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 531 A

F-Term (10)：

2G086HH06 , 2H097CA15 , 2H097LA10 , 5F046FA10 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GB03 , 5F046GB07 , 5F046GB09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-268582 Applicant：株式会社ニコン

Return to Previous Page