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J-GLOBAL ID：200903000437115783

回折光学素子及びその製造方法及び光学機器

Inventor： 中林 正明
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997202368
Publication number (International publication number)：1999030711
Application date： Jul. 11, 1997
Publication date： Feb. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 異方性ドライエッチングにより多層構造を有する高精度の回折光学素子を低コストで量産する。【解決手段】 2層構造の回折光学素子では、光学的特性から材料を選択し、第1層と第2層の回折格子それぞれの格子構造が所望の形状を得られるよう設計した型を用いて、加工したい材料の所定の位置に有機性被膜材料を成形し、異方性ドライエッチングを施して所望の形状に作成して第1層の回折格子11とし、分散の大きいTiO2 などを蒸着又はスパッタ技術で成膜し、そのTiO2 膜上に有機性被膜材料を型で成形し、異方性ドライエッチングでTiO2 を所望の形状に加工して第2層の回折格子12とする。

Claim (excerpt)：

複数層構造の回折格子を加工するに適した形状を有する型を用いて材料上に有機性被膜材料から成る所望の立体形状を成形し、異方性ドライエッチングにより前記材料に前記有機性被膜材料の立体形状を転写する工程を、成膜過程を挟んで複数回行うことによって形成することを特徴とする回折光学素子。