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J-GLOBAL ID:200903000441415465

(メタ)アクリル酸エステル誘導体、酸感応性重合体及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 幸久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998293563
Publication number (International publication number):2000119588
Application date: Oct. 15, 1998
Publication date: Apr. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】 光照射により速やかに現像液に溶解し、微細なパターンを安定且つ高い精度で形成できるフォトレジスト用樹脂組成物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X及びYは、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X及びYの少なくとも一方は単結合である)で表される構造単位を有する重合体と光酸発生剤とを含む。前記重合体を構成する単量体には、例えば、下記式(2a)【化2】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X1及びY1は、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X1が単結合の場合にはY1は酸素原子であり、X1が酸素原子の場合にはY1は単結合である)で表される(メタ)アクリル酸エステル誘導体などが含まれる。
Claim (excerpt):
下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X及びYは、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X及びYの少なくとも一方は単結合である)で表される構造単位を有する重合体と光酸発生剤とを含むフォトレジスト用樹脂組成物。
IPC (5):
C09D133/14 ,  C07D313/04 ,  C08F 20/28 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 501
FI (5):
C09D133/14 ,  C07D313/04 ,  C08F 20/28 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 501

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