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J-GLOBAL ID：200903000455004115
光強度分布解析方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993271111
Publication number (International publication number)：1995128138
Application date： Oct. 29, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：
【要約】【目的】光強度分布の解析精度を向上させる。【構成】多角形で定義されたマスクパターン101を三角形102〜104と四角形100,105〜107とに分解して各々の三角形102〜104毎および四角形100,105〜107毎に解析的にフーリエ変換を算出することにより、パターン101のフーリエ変換を求め、光強度計算を行う。
Claim (excerpt)：
平行光を供給する光源と、前記平行光の伝搬路中に配置され予め定めた多角形のパターンを有するマスクと、前記マスクの前記パターン対応の透過光の光量を予め定めた瞳関数で制御する瞳と、前記瞳の通過光をイメージ面に集光するレンズとを含むプロジェクションシステムの前記イメージ面における光強度の分布を解析する光強度分布解析方法において、前記多角形を分解し三角形と四角形との組合せで表現するステップと、各々の前記三角形および前記四角形のフーリエ変換を各々対応の解析式から算出するステップと、前記三角形および前記四角形のフーリエ変換を加減算により合成し前記多角形のフーリエ変換を得るステップと、前記多角形のフーリエ変換と前記瞳関数との積を算出するステップと、前記積をFFTにより逆変換するステップとを含むことを特徴とする光強度分布解析方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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