Pat
J-GLOBAL ID:200903000459713722
シクロヘキサノール脱水素反応用触媒
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (2):
浜田 治雄 (外1名)
, 浜田 治雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999100677
Publication number (International publication number):2000288395
Application date: Apr. 07, 1999
Publication date: Oct. 17, 2000
Summary:
【要約】【課題】 シクロヘキサノール脱水反応において長時間にわたり高い活性を維持する高性能触媒を提供する。【解決手段】 本発明の触媒は、酸化銅、酸化亜鉛及びマグネシウムアルミネートからなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
酸化銅、酸化亜鉛及びマグネシウムアルミネートからなることを特徴とするシクロヘキサノール脱水素反応用触媒。
IPC (4):
B01J 23/80
, C07C 45/29
, C07C 49/403
, C07B 61/00 300
FI (4):
B01J 23/80 Z
, C07C 45/29
, C07C 49/403 A
, C07B 61/00 300
F-Term (34):
4G069AA02
, 4G069AA08
, 4G069BA01B
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC10A
, 4G069BC10B
, 4G069BC16A
, 4G069BC16B
, 4G069BC31A
, 4G069BC31B
, 4G069BC35A
, 4G069BC35B
, 4G069CB19
, 4G069CB72
, 4G069DA05
, 4G069ED03
, 4G069FA01
, 4G069FB05
, 4G069FB09
, 4G069FB30
, 4G069FC08
, 4H006AA02
, 4H006AA03
, 4H006AC44
, 4H006BA05
, 4H006BA06
, 4H006BA07
, 4H006BA09
, 4H006BA30
, 4H006BJ20
, 4H006BR70
, 4H039CA62
, 4H039CC20
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
ε-カプロラクタムの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-190621
Applicant:三菱化学株式会社
-
特開平2-000216
-
ヒドロキシジフエニル類の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-282253
Applicant:バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
-
メタノール合成用流動触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-111859
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
Show all
Return to Previous Page