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J-GLOBAL ID：200903000464342538

ピリドンイソオキサゾールセフェム化合物及びその製造方法

Inventor： 張 文 鎬 ,  姜 漢 榮 ,  高 勲 英 ,  車 周 煥 ,  沈 相 ▲チュル▼
Applicant, Patent owner： 財団法人韓国科学技術研究院
Agent (1)： 津国 肇 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993175253
Publication number (International publication number)：1994179683
Application date： Jul. 15, 1993
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 次式のセファロスポリン化合物及びその薬理学的に許容される塩及びその製造方法。〔式中、R1は水素又は保護基であり、R2は水素、塩もしくはエステルを形成する原子もしくは基又は保護基であり、R3及びR4は、同じであるか互いに異なり、水素又は保護基であり、Qは水素、ハロゲン、ビニル、アセトキシメチル、ハロメチル、N-エチルピリジニウムチオメチル、N-カルボキシルメチルピリジニウムチオメチル又は1-メチル-テトラゾリルチオメチルである。〕【効果】 グラム陽性菌及びグラム陰性菌に対して優れた抗菌力を示すので、セファロスポリン化合物系列医薬品として有用である。

Claim (excerpt)：

一般式(I)で示されるセファロスポリン化合物及びその薬理学的に許容される塩。【化1】上記式中、R1 は水素又は保護基であり、R2 は水素、塩もしくはエステルを形成する原子もしくは基又は保護基であり、R3 及びR4 は、同じであるか互いに異なり、水素又は保護基であり、Qは水素、ハロゲン、ビニル、アセトキシメチル、ハロメチル、N-エチルピリジニウムチオメチル、N-カルボキシルメチルピリジニウムチオメチル又は1-メチル-テトラゾリルチオメチルである。

IPC (5)：

C07D501/20 105 ,  A61K 31/545 ADZ ,  C07D501/22 114 ,  C07D501/24 ,  C07D501/36 114