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J-GLOBAL ID:200903000475253499

浄水装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石川 泰男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004134562
Publication number (International publication number):2005313088
Application date: Apr. 28, 2004
Publication date: Nov. 10, 2005
Summary:
【課題】 被処理水の処理効率が飛躍的に向上し、またその浄化性能も優れている浄水装置を提供することを主たる目的とする。【解決手段】 浄水装置の処理空間に、当該処理空間を流通する被処理水の流れと略直交するように、その表面には少なくとも光半導体粉末からなる光触媒機能体が付着せしめられた多孔板と設ける。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光触媒によって被処理水を浄化する浄水装置であって、 当該浄水装置は、 導入口と排出口とが設けられた装置本体と、 前記装置本体の内部に設けられた内部管と、 前記内部管の内部に設けられた紫外線ランプと、 前記装置本体と内部管との間に形成される処理空間に、当該処理空間を流通する被処理水の流れと略直交するように複数設けられ、その表面には少なくとも光半導体粉末からなる光触媒機能体が付着せしめられた多孔板と、 を備えることを特徴とする浄水装置。
IPC (4):
C02F1/32 ,  B01J35/02 ,  B01J37/02 ,  C02F1/72
FI (4):
C02F1/32 ,  B01J35/02 J ,  B01J37/02 301Q ,  C02F1/72 101
F-Term (31):
4D037AA09 ,  4D037AB01 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037AB04 ,  4D037BA18 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA11 ,  4D050AA10 ,  4D050AB04 ,  4D050AB06 ,  4D050AB07 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050CA06 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA13A ,  4G069BA13B ,  4G069BA48A ,  4G069CA05 ,  4G069CA06 ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EB10 ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB22
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 紫外線殺菌浄化方法とその装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-251447   Applicant:ライザー工業株式会社, 株式会社信州セラミックス

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