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J-GLOBAL ID：200903000478622177

光学異方素子の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子

Inventor： 西浦 陽介
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994130307
Publication number (International publication number)：1995333437
Application date： Jun. 13, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【構成】 フイルムの面方向にせん断力を加えることによって、フイルムに歪変形を与える工程と、横一軸延伸工程を有する光学異方素子の製造方法において、該工程を通す前のフィルムの表面粗さ(Ra)が式(1)の範囲である光学異方素子。式(1) 1nm≦Ra≦20nm【効果】 TN型液晶表示素子の視野角特性、色ムラが改善され、視認性に優れた高品位表示の液晶表示素子を提供できる。

Claim (excerpt)：

熱可塑性樹脂からなり、光透過性を有するフイルムを周速が異なる2本のロール間に挟んで、該フイルムの面方向にせん断力を加えることによって、フイルムにひずみ変形を与える工程と、横一軸延伸工程とを有する光学異方素子の製造方法において、該工程を通す前のフィルムの表面粗さ(Ra)が式(1)の範囲である事を特徴とする光学異方素子の製造方法。式(1) 1nm≦Ra≦20nm

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/1335 510