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J-GLOBAL ID：200903000488257400
プラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
土井 育郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998195228
Publication number (International publication number)：1999073875
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：
【要約】【課題】 生産性を改善すると共に歩留りを向上させ、かつ良好な線幅精度を得るようにする。【解決手段】 電極18パターンの上から基板に障壁パターン形成材料19を所定の膜厚で塗布し、基板を加熱して障壁パターン形成材料19の上部にドライフィルム20をラミネートした後、ドライフィルム20をフォトリソグラフィー法によりパターニングして所望パターンに応じたサンドブラスト用マスク23を形成し、そのサンドブラスト用マスク23を介してサンドブラスト24により不要部分を除去することで目的とする障壁25のパターンを形成する。1回の操作により100μm以上のパターンが得られる。サンドブラスト用マスク23は、ドライフィルム20をフォトリソグラフィー法により加工するので高精細パターンの対応ができる。
Claim (excerpt)：
電極がラインパターン状に形成されたプラズマディスプレイ基板上における前記電極の間に障壁を形成する厚膜パターン形成方法であって、電極パターンの上から基板に障壁パターン形成材料を所定の膜厚で塗布し、基板を加熱して障壁パターン形成材料の上部にドライフィルムをラミネートした後、該ドライフィルムをフォトリソグラフィー法によりパターニングして所望パターンに応じたサンドブラスト用マスクを形成し、そのサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことにより、目的とする障壁パターンを得ることを特徴とするプラズマディスプレイ基板の厚膜パターン形成方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01J 9/02 F
, H01J 11/02 B
