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J-GLOBAL ID：200903000507251124

埋立地の地盤における遮水構造

Inventor： 和木 多克 ,  石田 正利 ,  池谷 典尚
Applicant, Patent owner： 太陽工業株式会社
Agent (1)： 澤田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007203593
Publication number (International publication number)：2009034652
Application date： Aug. 03, 2007
Publication date： Feb. 19, 2009
Summary：

【課題】地盤の上方の埋立域に投入された埋立材に基づき生じた汚濁水が、地盤内に向かって拡散するということをより確実に防止する。【解決手段】埋立地の地盤における遮水構造は、その上方が埋立域4とされる地盤2の上面側に対し、この上面に沿ったx方向Xとこれに直交するy方向Yとにそれぞれ所定間隔をあけて敷設される所定形状かつ遮水性の複数のブロック14と、x方向Xとy方向Yとで互いに隣り合うブロック14同士の間の各隙間15に互いに連続するよう充填される遮水材16とを備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

その上方が埋立域とされる地盤の上面側に対し、この上面に沿ったx方向とこれに直交するy方向とにそれぞれ所定間隔をあけて敷設される所定形状かつ遮水性の複数のブロックと、上記x方向とy方向とで互いに隣り合う上記ブロック同士の間の各隙間に互いに連続するよう充填される遮水材とを備えたことを特徴とする埋立地の地盤における遮水構造。

IPC (2)：

B09B 1/00 ,  E02B 3/18

FI (2)：

B09B1/00 F ,  E02B3/18 F

F-Term (4)：

4D004AA46 ,  4D004AB01 ,  4D004BB04 ,  4D004BB05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第3642050号公報