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J-GLOBAL ID：200903000508441725

処理装置及び処理装置の保守方法

Inventor： 鳥屋 大輔 ,  本間 謙治 ,  塚田 明彦 ,  下村 晃司
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002279181
Publication number (International publication number)：2003303023
Application date： Sep. 25, 2002
Publication date： Oct. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】液体ソースを気化して成膜処理を行う装置において、液体ソースの流量制御部例えばマスフローコントローラ(MFC)の動作確認を液体ソースの供給路から切り離さずに行うこと。【解決手段】液体ソース供給路を洗浄するための洗浄液供給路の一部をバイパスし、そのバイパス路に校正用の流量計を設け、この流量計及びMFCに洗浄液を流すことによりMFCの動作確認を行う。洗浄時にはバイパス路に洗浄液が流れないようにすることにより、成膜処理時の液体ソースの流量が洗浄時の洗浄液の流量に比べて例えば1/10程度と小さい場合でも、流量計が振り切れることがない。また他の手法として、MFCの設定流量に対応する信号とMFCのバルブの開度に対応する信号との関係を予め取っておき、そのデータと校正時のデータとを比較するようにしてもよい。

Claim (excerpt)：

液体ソース供給源に接続された液体ソース供給路と、この液体ソース供給路に設けられ、設定流量となるように流量を制御する液体ソース用の液体流量制御部と、洗浄液供給源に一端が接続され、前記液体ソース供給路に他端が接続された洗浄液供給路と、前記液体ソースにより被処理体に対して処理が行われる処理容器と、を備えた処理装置において、前記洗浄液供給路に設けられ、流量測定部からなる校正用機器を備え、前記校正用機器を介して洗浄液を前記液体ソース用の液体流量制御部に通流し、当該液体ソース用の液体流量制御部の動作を確認することを特徴とする処理装置。

IPC (6)：

G05D 7/06 ,  G01F 1/00 ,  G01F 25/00 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/31

FI (6)：

G05D 7/06 Z ,  G01F 1/00 X ,  G01F 25/00 Q ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/31 A

F-Term (29)：

2F030CB04 ,  2F030CC20 ,  5F045AB31 ,  5F045AC11 ,  5F045AF03 ,  5F045BB08 ,  5F045BB14 ,  5F045EB06 ,  5F045EE02 ,  5F045EE04 ,  5H307AA15 ,  5H307BB01 ,  5H307BB05 ,  5H307BB09 ,  5H307CC01 ,  5H307CC13 ,  5H307DD18 ,  5H307EE02 ,  5H307EE13 ,  5H307EE21 ,  5H307ES01 ,  5H307FF06 ,  5H307FF12 ,  5H307GG05 ,  5H307GG09 ,  5H307GG13 ,  5H307HH04 ,  5H307KK07 ,  5H307LL07