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J-GLOBAL ID：200903000511149784

有害ガス浄化装置及び浄化方法

Inventor： 島川 憲三
Applicant, Patent owner： 株式会社島川製作所
Agent (1)： 池内 寛幸 (外2名)
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP1999002753
Publication number (International publication number)：WO1999061137
Application date： May. 25, 1999
Publication date： Dec. 02, 1999
Summary：

【要約】有害ガス成分を含む気体の供給手段(11)と、供給された気体中の有害ガス成分を一旦溶解し、溶解した有害ガス成分を後に放出する液体(42)を用いた緩衝手段と、前記緩衝手段から供給される気体中の有害ガス成分の浄化手段(51)とを備えている有害ガスの浄化装置である。前記緩衝手段の液体(42)は、供給された気体に含まれる有害ガス成分の濃度が高いときは前記有害ガス成分を溶解し、前記濃度が低いときはそれまでに溶解した有害ガス成分を放出する。有害ガスが酸化エチレンの場合、前記液体としては水を使用する。

Claim (excerpt)：

有害ガス成分を含む気体の供給手段と、供給された気体中の有害ガス成分を一旦溶解し、溶解した有害ガス成分を後に放出する液体を用いた緩衝手段と、前記緩衝手段から供給される気体中の有害ガス成分の浄化手段とを備える有害ガス浄化装置。

IPC (4)：

B01D 53/34 ,  B01D 53/77 ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/86

FI (5)：

B01D 53/34 D ,  B01D 53/34 E ,  B01D 53/34 120 E ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 B