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J-GLOBAL ID:200903000511617958

浴槽洗浄システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中野 雅房
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005164199
Publication number (International publication number):2006334216
Application date: Jun. 03, 2005
Publication date: Dec. 14, 2006
Summary:
【課題】 洗剤タンクに貯めた洗剤の量によらず、浴槽内に噴霧される湯水と洗剤の混合液の洗剤濃度を一定にし、浴槽の洗浄性能及びすすぎ性能を安定して満足する浴槽洗浄システムを提供する。【解決手段】 混合部13と浴槽11に設けた噴霧部16は湯水供給配管20で接続され、混合部13と洗剤タンク12は洗剤供給配管21によって接続されている。また、洗剤供給配管21には電動三方弁14が設けられ、大気に開放された大気開放配管24が接続されている。また、洗剤供給配管21の電動三方弁14よりも混合部13側にはほぼ水平向きに設置されている洗剤貯蔵部23が形成されている。浴槽11内に洗剤を噴霧する場合は、洗剤貯蔵部23内に洗剤が充填した後、電動三方弁14によって洗剤タンク12と洗剤貯蔵部23を隔離した状態で洗剤貯蔵部23内の洗剤のみを使用して浴槽11内の洗浄をおこなう。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
浴槽と、 前記浴槽内に湯水及び洗剤を噴霧するための、前記浴槽に設けた噴霧部と、 前記噴霧部に湯水を供給するための湯水供給配管と、 前記湯水供給配管を流れる湯水に洗剤を吸引させるための混合部と、 洗剤を貯めておく為の洗剤タンクと、 洗剤を前記洗剤タンクから前記混合部に導くための洗剤供給配管とを設けた浴槽洗浄システムにおいて、 前記洗剤供給配管の一部に水平方向を向いた水平領域を設けたことを特徴とする浴槽洗浄システム。
IPC (1):
A47K 3/00
FI (1):
A47K3/00 Q
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)

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