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J-GLOBAL ID：200903000512736705

微粒子配列装置およびその製造方法

Inventor： 布施 晃広
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001283160
Publication number (International publication number)：2003088752
Application date： Sep. 18, 2001
Publication date： Mar. 25, 2003
Summary：

【要約】【課題】 非常に簡便なプロセスを用いて2次元又は3次元構造で高密度でかつ規則的に微粒子を配列できる方法を提供する。【解決手段】 少なくとも基材1上に、紫外線照射によって濡れ性の変化する材料からなる下地層2を形成する工程と、該下地層2の上に所望のパターンに応じた紫外線を照射する工程と、前記の工程を経た基材上にゾルゲル法によって膜3を形成する工程と、微粒子4が分散した懸濁液を前記の工程を経た基材上に展開する工程とを含み、微粒子4を規則的に配列させる。得られた微粒子配列装置を模式的に示したもので、紫外線の照射によって表面の濡れ性が変化する下地層2が設けられた基材1上に、ゾルゲル法によって形成された膜3でパターニングされた領域に微粒子4が規則正しく配列されている。

Claim (excerpt)：

基材上に微粒子を配列して成る微粒子配列装置の製造方法において、少なくとも基材上に、紫外線照射によって濡れ性の変化する材料からなる下地層を形成する工程と、該下地層の上に所望のパターンに応じた紫外線を照射する工程と、前記の工程を経た基材上にゾルゲル法によって膜を形成する工程と、前記の工程を経た基材上に微粒子が分散した懸濁液を展開する工程と、を含んで成ることを特徴とする微粒子を規則的に配列させる微粒子配列装置の製造方法。

IPC (3)：

B01J 19/12 ,  B01J 19/00 ,  G11B 5/84

FI (3)：

B01J 19/12 C ,  B01J 19/00 K ,  G11B 5/84 Z

F-Term (20)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA35 ,  4G075BA05 ,  4G075BB05 ,  4G075BB10 ,  4G075BD16 ,  4G075CA33 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EC09 ,  4G075EE12 ,  4G075EE13 ,  4G075EE21 ,  4G075FA02 ,  4G075FA12 ,  4G075FB01 ,  4G075FC02 ,  5D112AA05 ,  5D112BB10