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J-GLOBAL ID：200903000518292140
基板のリソグラフィ処理方法及び基板処理方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
宮川 貞二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343966
Publication number (International publication number)：1999162842
Application date： Nov. 28, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：
【要約】【課題】 処理しようとするウエハの処理履歴に拘わらずスループットの高い処理を可能とする処理方法を提供する。【解決手段】 基板Wにパターンを形成する工程を含むリソグラフィ処理方法において、基板Wに付された識別符号121と実際に第1リソグラフィ処理で基板Wが処理された処理条件とを記憶し、第1リソグラフィ処理が行われた基板Wの識別符号121を読み取り、識別符号121を用いて、記憶された処理条件を呼び出し、呼び出された処理条件に基づいて、基板Wに第2リソグラフィ処理を行うリソグラフィ処理方法。記憶された第1リソグラフィ処理が行われた基板Wの識別符号121を用いて、前記処理条件を呼び出して、その条件に基づいて、基板Wに第2リソグラフィ処理を行うので、識別符号により、基板毎に前に行われた処理の順序などを知り、その順序を調整した上で次の第2リソグラフィ処理を行うことができる。
Claim (excerpt)：
基板にパターンを形成する工程を含むリソグラフィ処理方法において、前記基板に付された識別符号と実際に第1リソグラフィ処理で前記基板が処理された処理条件とを記憶し、前記第1リソグラフィ処理が行われた前記基板の前記識別符号を読み取り、前記識別符号を用いて、記憶された前記処理条件を呼び出し、呼び出された前記処理条件に基づいて、前記基板に第2リソグラフィ処理を行うことを特徴とするリソグラフィ処理方法。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/02
H01L 21/30 502 G
, G03F 9/00 H
, H01L 21/02 Z
