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J-GLOBAL ID：200903000526020443
回転式基板現像装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995256228
Publication number (International publication number)：1997094515
Application date： Oct. 03, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：
【要約】【課題】 現像むらの発生しにくい回転式基板現像装置を提供する。【解決手段】 円盤状のメカチャック10の外径が基板Wの外径より大きく作られている。このメカチャック10の回転台RPのうち基板Wからはみ出した部分ROUTが存在することによって、上方から吹き下ろされるダウンフローが基板Wの周辺部から下方へ回り込まないで、回転台RPの外側部分ROUTの外側で下方に回り込むことになる。これにより基板W上面近傍でのダウンフローに対して基板Wの中心部周辺と基板Wの外周部周辺との流速の差が生じにくくなり、現像液の蒸発速度の違いによる現像処理中の基板Wの中心部と外周部との気化熱の放出による温度低下の差を小さく抑え、現像むらを少なくすることができる。
Claim (excerpt)：
上方から気流を吹き降ろしながら、露光された基板を回転しつつ現像液を塗布し、現像する回転式基板現像装置において、基板の外周部近傍の全周に、前記気流をガイドする整流手段を備えることを特徴とする回転式基板現像装置。
IPC (2)：
FI (2)：
B05C 11/08
, H01L 21/30 569 C
