Pat

J-GLOBAL ID：200903000528114526

光ディスク

Inventor： 大槻 洋 ,  吉田 美喜男 ,  池田 悦郎
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995339671
Publication number (International publication number)：1997180258
Application date： Dec. 26, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 薄膜部12を構成する各薄膜11〜14を成膜する際に、何等かの原因により2分以上の間成膜作業が停止しても、製造される光磁気ディスクのエラーレートを増大させることなく高品質を実現させて製品の歩留り及び信頼性の大幅な向上を図る。【解決手段】 薄膜の成膜時から継続して当該成膜時に比して100W〜500W程度の低い投入パワーによりターゲット板51とディスク基板1との間に微弱放電を発生させる。

Claim 1：

ディスク基板上に記録膜を含む各薄膜が積層成膜されてなる薄膜部を備え、以下の数式k(h1 /h2 2 )ΔTd≦4(mrad)h1 :薄膜部の膜厚或は薄膜部を構成する各薄膜のうちで最も線膨張係数が小さい薄膜の膜厚h2 :ディスク基板厚d:薄膜部の成膜領域におけるディスク径方向の幅T:光ディスクの使用環境における温度変化幅k:薄膜部及びディスク基板のヤング率、線膨張係数をそれぞれE1 ,E2、γ1 ,γ2 としたときに、(γ1 -γ2 )(6E2 /E1 )を満たす比例係数を満たすように、h1 ,h2 ,及びdが設定されていることを特徴とする光ディスク。

IPC (2)：

G11B 7/24 541 ,  G11B 7/24

FI (2)：

G11B 7/24 541 D ,  G11B 7/24 541 B