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J-GLOBAL ID：200903000531296660

置換された3-(ピリジニルアミノ)-インドールおよびベンゾ〔b〕チオフエンおよびその製法

Inventor： リチヤード・チヤールズ・エフランド ,  ジヨゼフ・トマス・クライン ,  ロレンス・リーオウ・マーチン
Applicant, Patent owner： ヘキスト-ルセル・フアーマシユウテイカルズ・インコーポレイテツド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992096304
Publication number (International publication number)：1993117266
Application date： Apr. 16, 1992
Publication date： May. 14, 1993
Summary：

【要約】【構成】 式【化1】〔式中、R1は、水素、低級アルキル、低級アルケニルなど、基-X-Y=は、【化2】R2およびR3は、独立して水素または低級アルキル、Wは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシなど、Zは、水素、ハロゲン、低級アルキル、ニトロまたはアミノである〕の化合物に関する。【効果】 これらの化合物は、アルツハイマー病のような種々な記憶機能障害を軽減するのに有用であり、セロトニン作動機能およびアドレナリン作動機能のような神経伝達物質の機能の変調剤として有用でありそしてそれ自体で抗うつ病薬、不安解消薬、非定型の抗精神病薬、抗嘔吐薬として有用でありそしてまた強迫病のような人格病を治療するのに有用である。

Claim (excerpt)：

式【化1】〔式中、R1は、水素、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキニル、アリール低級アルキル、アミノ低級アルキル、低級アルキルアミノ低級アルキル、ホルミル、低級アルキルカルボニル、アミノ低級アルキルカルボニルまたは低級アルコキシカルボニルであり、基 -X-Y= は、【化2】であり、R2およびR3は、独立して水素または低級アルキルであり、Wは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アリール低級アルコキシまたは【化3】であり、R4は、水素、低級アルキルまたはアリール低級アルキルであり、R5は、低級アルキルまたはアリール低級アルキルであり、または基 -NR4R5 は、全体として【化4】であり、R6は、水素、低級アルキル、アリールまたはアリール低級アルキルであり、そしてZは、水素、ハロゲン、低級アルキル、ニトロまたはアミノである〕の化合物またはその薬学的に許容し得る酸付加塩。

IPC (10)：

C07D401/12 209 ,  A61K 31/44 AAE ,  A61K 31/44 AAK ,  A61K 31/44 AAM ,  A61K 31/44 AAN ,  A61K 31/47 ACP ,  C07D401/12 231 ,  C07D401/14 ,  C07D409/12 213 ,  C07D409/14